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   4路質子混氣PECVD系統-GSL-1200X開啟式管式爐為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）， 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。

 技術參數如下：
實驗機理     
輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3
電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍
產品特點
雖環境溫度在100-300℃，但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解，離解和離化，從而大大提高了反應物的活性。這類具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上，發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜。
鄭州科晶公司提供定制的薄膜材料的實驗室質量可靠、價格非常合理的緊湊型PECVD系統。
 
開啟式管式爐
工作溫度：1200℃
可選爐管尺寸：Φ50，Φ60，Φ80
溫度控制器：30段高精度數字可編程溫度控制器
加熱區長度：440mm
恒溫區長度：150mm
功率：AC 220V 4KW
等離子射頻電源                      
輸出功率：50-500W最大可調±1%
RF頻率： 13.56MHz，穩定性±0.005%
噪聲：≤55DB
冷卻：風冷
輸入功率：1KW  AC 220V
真空泵和閥門                         
采用KF25系列波紋管和精密針閥連接
真空度可達10-3torr
數字真空壓力表可直觀的顯示數值
可選：本公司進口的防腐型數字式真空顯示計，其測量范圍為3.8x10-5至 1125Torr.不需因測量氣體種類不同而需要系數轉換。

質量流量計
內部裝有高精度數字顯示質量流量計可準確的控制氣體流量
氣體流量范圍為0-200 誤差為0.02%
一個氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥
不銹鋼針閥安裝在左側可手動控制混合氣體輸入
進氣口：采用國際標準雙卡套接頭
 
外形尺寸
爐體：550*380*520mm
供氣及真空系統：600*600*597mm
凈重：120KG

質保期
一年質保期相關耗材除外，如加熱元件，密封圈等易耗件
質量認證：